ITO靶材在濺射鍍膜過(guò)程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過(guò)去，這些價(jià)值的廢料往往被簡(jiǎn)單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業(yè)材料,在高技術(shù)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,主要集中在半導(dǎo)體、透明導(dǎo)電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機(jī)物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻(xiàn)報(bào)道不一,普遍認(rèn)為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發(fā)現(xiàn),它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質(zhì)類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產(chǎn)。

ITO靶材的基本介紹：

主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）

應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽(yáng)能電池、觸摸屏等

靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。