ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

ITO靶材回收注意事項：

措施：處理酸堿和廢液時需注意和環(huán)保。

環(huán)保合規(guī)：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。

回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。

目前，市場上已有不少專業(yè)的ITO靶材回收企業(yè)，他們通過先進的回收技術和設備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進行有效分離和提純，再加工成新的靶材產(chǎn)品，實現(xiàn)了資源的循環(huán)利用。