ITO靶材，全稱氧化銦錫靶材，是一種專門用于磁控濺射鍍膜的材料。氧化銦錫（簡稱ITO）是一種n型半導體材料，通常由90%的氧化銦（In?O?）和10%的氧化錫（SnO?）組成。這種材料以其的透明度和導電性，成為現(xiàn)代電子工業(yè)中不可或缺的組成部分。無論是智能手機的觸摸屏、平板電腦的顯示面板，還是太陽能電池的透明電極，ITO靶材都以其獨特的功能支撐著這些設備的運行。

目前，ITO靶材的制備主要有兩種常見方法：熱壓燒結法和冷等靜壓法。

熱壓燒結法

工藝流程：將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后，放入模具，在高溫（1000-1500°C）和高壓（幾十到幾百兆帕）下壓制成型。高溫使粉末顆粒熔融結合，形成致密的靶材結構。

優(yōu)點：這種方法制備的靶材密度接近理論值（通常超過99%），晶粒分布均勻，適合高精度鍍膜需求。

缺點：設備復雜，能耗高，生產(chǎn)成本較高。

適用場景：高端電子產(chǎn)品，如智能手機、平板電腦的顯示屏制造。

區(qū)別對比

?成分差異：銦靶材為純金屬銦制成，而ITO靶材則是銦錫氧化物的復合物。

?用途不同：銦靶材主要用于需要高導電性和延展性的領域，如航空航天部件；ITO靶材則因其透明導電性廣泛應用于光電顯示領域。

?性能特點：銦靶材更側重于導電性和機械強度，而ITO靶材則兼顧導電性和光學透明性。

技術破局：從粗放走向精純

現(xiàn)代銦回收工藝已形成精細鏈條：

預處理與富集：機械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉(zhuǎn)入溶液。

深度分離提純（核心技術）：

溶劑萃取法：利用特定有機溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實現(xiàn)與鐵、鋅、錫等雜質(zhì)的深度分離，富集倍數(shù)可達千倍。

離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。

電解沉積：對富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。

高純精煉：對粗銦進行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質(zhì)（如鎘、鉛），產(chǎn)出純度高達99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。

綠色升級：循環(huán)經(jīng)濟的必由之路

相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產(chǎn)品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢：

資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠超原礦。

節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產(chǎn)的1/3，大幅降低碳排放。

環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。

經(jīng)濟可行：銦價高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強勁動力。