氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結構使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設備和顯示技術。

劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

ITO廢料來源與回收技術 ITO廢料來源于生產(chǎn)廢料、終端廢料及工業(yè)副產(chǎn)物，為回收提供了豐富資源。ITO廢料來源于多個方面。首先，在ITO靶材的生產(chǎn)過程中，會產(chǎn)生切削碎屑和鍍膜后的廢靶材，這些屬于生產(chǎn)廢料。其次，隨著電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代，廢棄的LCD面板、智能手機屏幕以及光伏薄膜等電子垃圾也逐漸增多，這些被稱為終端廢料。此外，金屬冶煉過程中也會產(chǎn)生含銦煙塵或廢渣，這屬于工業(yè)副產(chǎn)物。這些不同來源的ITO廢料，為銦的回收利用提供了豐富的資源。

區(qū)別對比 ?成分差異：銦靶材為純金屬銦制成，而ITO靶材則是銦錫氧化物的復合物。 ?用途不同：銦靶材主要用于需要高導電性和延展性的領域，如航空航天部件；ITO靶材則因其透明導電性廣泛應用于光電顯示領域。 ?性能特點：銦靶材更側重于導電性和機械強度，而ITO靶材則兼顧導電性和光學透明性。